金剛石MPCVD(微波等離子體化學(xué)氣相沉積)技術(shù)中使用的氫氣發(fā)生器是制備高純度氫氣的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于提供反應(yīng)氣體以生成金剛石薄膜。以下是關(guān)于該氫氣發(fā)生器的詳細(xì)介紹：
 

　　1. 核心功能
 

　　- 高純度氫氣供應(yīng)：為MPCVD系統(tǒng)提供純度≥99.999%的氫氣，確保金剛石生長(zhǎng)過(guò)程中無(wú)雜質(zhì)干擾。
 

　　- 等離子體激發(fā)：氫氣在微波等離子體環(huán)境下解離為活性氫原子，促進(jìn)碳源(如CH?)的分解和金剛石結(jié)晶。
 

　　2. 氫氣發(fā)生器類型
 

　　- 電解水制氫：
 

　　- 原理：通過(guò)電解去離子水(H?O)產(chǎn)生H?和O?，經(jīng)純化后獲得高純氫。
 

　　- 優(yōu)點(diǎn)：純度高(可達(dá)6N以上)，適合實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)。
 

　　- 缺點(diǎn)：能耗較高，需配套純化模塊。
 

　　- 甲醇/氨分解制氫：
 

　　- 原理：催化分解甲醇(CH?OH)或氨(NH?)生成氫氣。
 

　　- 優(yōu)點(diǎn)：適合中大規(guī)模應(yīng)用，成本較低。
 

　　- 缺點(diǎn)：需處理副產(chǎn)物(如CO?、N?)，純度依賴后續(xù)純化。
 

　　3. 關(guān)鍵性能參數(shù)
 

　　- 純度：≥99.999%(5N)，避免O?、H?O等雜質(zhì)影響金剛石質(zhì)量。
 

　　- 流量控制：精確調(diào)節(jié)(0-500 sccm至數(shù)十SLM)，匹配MPCVD工藝需求。
 

　　- 輸出壓力：通常0.1-1 MPa，需與MPCVD真空系統(tǒng)兼容。
 

　　- 安全性：配備泄漏檢測(cè)、自動(dòng)切斷和泄壓裝置。
 

　　4. 在MPCVD中的作用
 

　　- 等離子體維持：氫氣作為主要載氣，維持穩(wěn)定的微波等離子體。
 

　　- 表面清潔：氫等離子體去除襯底表面非金剛石碳相。
 

　　- 生長(zhǎng)促進(jìn)：活性氫原子促進(jìn)碳?xì)浠鶊F(tuán)的化學(xué)反應(yīng)，形成sp?鍵金剛石。
 

　　5. 選型建議
 

　　- 匹配MPCVD規(guī)模：小型實(shí)驗(yàn)室設(shè)備選電解制氫，工業(yè)級(jí)選甲醇/氨分解。
 

　　- 純化模塊：優(yōu)先選擇內(nèi)置催化除氧和吸附干燥的型號(hào)。
 

　　- 智能化控制：支持流量、壓力的自動(dòng)化編程，便于工藝優(yōu)化。
 

　　6. 安全與維護(hù)
 

　　- 防爆設(shè)計(jì)：設(shè)備需符合ATEX或ISO標(biāo)準(zhǔn)。
 

　　- 定期維護(hù)：更換電解槽(電解水型)、催化劑(分解型)，檢查氣密性。
 

　　- 尾氣處理：分解制氫需配套尾氣凈化系統(tǒng)。